杭州凯亚达半导体材料有限公司

公司12年来共研制开发出40余项半导体化合物材料： 碲系化合物： 碲化铜(CuTe)，碲化铟( InTe)，碲化锌(ZnTe)，P/N三碲化二铋(Bi2Te3)，二氧化碲(TeO2)... 硫系化合物： 三硫化二镓(Ga2S3)，二硫化锗(GeS2)，硫化锌(ZnS)，硫化锡(SnS)，三硫化二铟(In2S3)，硫化亚铜（Cu2S）... 无氧硒及硒系化合物: 三硒化二镓(Ga2Se3)，硒化亚铜(Cu2Se)，三硒化二铟(In2Se3)，硒化锌(ZnSe)，硒化铋(Bi2Se3)... 氯系化合物： 无水三氯化铟(InCl3)，无水三氯化镓(GaCl3)，无水氯化亚铟(InCl)... 氧系化合物： 4N-5N三氧化二镓(Ga2O3)，4N-5N氧化锌(ZnO)，5N-6N 三氧化二铟(In2O3)，5N 三氧化二铋(Bi2O3)，4N-5N 三氧化二锑（Sb2O3）... 铜铟镓硒（CIGS）系列材料. 靶材：氧化锌靶，氧化锌铝靶，铜铟镓硒靶，三硒化二铟靶，硒化亚铜靶材... 公司现有工艺及设备： 1，电解装置4套：回收电解铜，电解铅锌矿的阳极泥；高纯铟的电解，特别是除去里面的杂质锡。 2，真空蒸馏装置12套：根据杂质不同的饱和蒸气压，采用真空蒸馏的方法将其去除。 3，区域熔炼炉10套。 4，单间提拉炉12套。 5，CVD 化学气相沉积设备3套。 6，PVD装置2套。 7，真空熔炼炉15套。 8，THM 移动式加热设备。 9，氯化炉3套（高纯锑专用），氢化还原炉3套。 公司现有的检测设备： 1，ICP-MS;ICP-OES (适用范围：检测